详细说明:
等离子清洗/蚀刻机是一台台式微波等离子清洗机设备。台式微波等离子清洗机系统融合了下面的特点,并在众多的应用领域中得到肯定:特点: 应用:
价格合理 打线垫清洗
高功率 清洗Pd-Ag裸芯片垫
电子数控 清洗镀金部件
负载循环控制 环氧溢出物去除
模拟功率控制 去除光刻胶
处理机存储 清洗陶瓷基片
水冷底座 清洗玻璃部件
工作功率 2.45 GHz 清洗光学部件
减少污水排放 清洗半导体表面
安全保护设计 塑胶密封剂去除--失效模式分析 塑料表面上胶处理
操作简便 清洗镀银部件
维护方便 减少金属氧化物
性能稳定 去除油渍或是环氧残留物
*专利保护 #典型的台式微波等离子清洗/蚀刻机
圆筒型反应舱系统 PLASMA-PREEN I
反应舱: 圆筒形
反应舱口径: 4.1”
反应舱深: 6.0”
反应舱材质: 派热克斯玻璃 (可选配石英玻璃)
水冷式系统 PLASMA-PREEN II
Model No. : 862 973
反应舱: 方形 方形
尺寸: 8”(L) x 6”(W) x 2”(H) 9” (L) x 7” (W) x 3” (H)
冷却面: 8” x 6” 9” x 7” side
反应舱材质: 派热克斯玻璃 & 铝材 派热克斯玻璃 & 铝材
外部尺寸: 28” (W) x 12” (H) x 13”(D) 28” (W)x 12” x 13” (D)
装运重量: 65 pounds(约29.5公斤) 80 pounds(约38.5公斤)
电源: 220V ac 50Hz 220V ac 50Hz
等离子体功率: 100 Watts 至 750 Watts 之间调节
频率: 2.45 Ghz
负载比: 10%至连续性
标准流量: 5 cu-ft./Hr. @ STP
附件: 真空泵及水冷却装置
处理气体: 大气、氧气、氩气等
台式微波等离子清洗/蚀刻机推荐应用于:
混合电路板制造中基片的清洗
打线工艺前清洗电子部件,提供其可靠性
锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗
清洗半导体
去胶
上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备
镀膜前对光学器件清洗
清洗石英、蓝宝石及其它材料
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