详细说明:
水冷式PPE等离子蚀刻机是一种小型化、非破坏性的超清洗设备。水冷式PPE等离子蚀刻机采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。水冷式PPE等离子蚀刻机外接一台真空泵,工作时等离子清洗机的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。等离子清洗机短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被等离子清洗机的真空泵抽走,这款小型等离子清洗机的清洗程度达到分子级。水冷式PPE等离子蚀刻机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:等离子清洗机的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。水冷式PPE等离子蚀刻机对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中小型等离子清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。我们的水冷式PPE等离子蚀刻机,广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。
水冷式PPE等离子蚀刻机融合了下面的特点,并在众多的应用领域中得到肯定:
特点: 应用:
价格合理 打线垫清洗
高功率 清洗Pd-Ag裸芯片垫
电子数控 清洗镀金部件
负载循环控制 环氧溢出物去除
模拟功率控制 去除光刻胶
处理机存储 清洗陶瓷基片
水冷底座 清洗玻璃部件
工作功率 2.45 GHz 清洗光学部件
减少污水排放 清洗半导体表面
安全保护设计 塑胶密封剂去除--失效模式分析 塑料表面上胶处理
操作简便 清洗镀银部件
维护方便 减少金属氧化物
性能稳定 去除油渍或是环氧残留物
*专利保护 #典型的台式微波等离子清洗/蚀刻机
PLASMA-PREEN 等离子清洗/蚀刻系统技术参数:
PLASMA-PREEN 等离子清洗/蚀刻系统有三款不同机型. 第一款是圆筒型反应舱系统。第二款是水冷式设备,反应舱尺寸为
圆筒型反应舱系统 PLASMA-PREEN I
反应舱: 圆筒形
反应舱口径:
反应舱深:
反应舱材质: 派热克斯玻璃 (可选配石英玻璃)
水冷式系统 PLASMA-PREEN II
Model No. : 862 973
反应舱: 方形 方形
尺寸:
冷却面:
反应舱材质: 派热克斯玻璃 & 铝材 派热克斯玻璃 & 铝材
外部尺寸:
装运重量: 65 pounds(约
电源: 220V ac 50Hz 220V ac 50Hz
等离子体功率: 100 Watts 至 750 Watts 之间调节
频率: 2.45 Ghz
负载比: 10%至连续性
标准流量: 5 cu-ft./Hr. @ STP
附件: 真空泵及水冷却装置
处理气体: 大气、氧气、氩气等
水冷式PPE等离子蚀刻机推荐应用于:
混合电路板制造中基片的清洗
打线工艺前清洗电子部件,提供其可靠性
锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗
清洗半导体
去胶
上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备
镀膜前对光学器件清洗
清洗石英、蓝宝石及其它材料
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