优纳科技与其日本控股公司共同完成无掩模(Maskless)光刻(Lithography)设备的研发，成为国内第一台基于数字微反射（DMD）技术实现的无掩模光刻的设备，该设备可广泛应用于纳米电子，平板显示，半导体，MEMS，μTAS，LCD，s生物芯片，和各类功能材料等领域，该设备具有以下特点：

1，利用DMD的缩影投射技术实现1每米的像素

2，实现薄膜透明材料的自动对焦

3，利用灰度图像投影可实现三维保护膜加工

4，采用405纳米波长LED光源，极大提高设备的可维护性和使用寿命

5，利用TTL（through-the-lens）对位技术实现高精度位置对准

6，可以实现不同厚度（亚微米-100微米以上）的保护膜兼容

7，重复位置精度0.1微米

8，各类光刻参数可以自由调节实现各种光刻的需要，可以制作出高质量的光变图像,例如2D图像,2D/3D图像,3D图像以及各种精密的微刻图像和文字等

9，支持标准CAD格式，兼容DXF，GDSII等