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北京优纳科技有限公司
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恭贺北京优纳无掩模光刻设备研发成功
优纳科技与其日本控股公司共同完成无掩模(Maskless)光刻(Lithography)设备的研发,成为国内第一台基于数字微反射(DMD)技术实现的无掩模光刻的
2010.04.09