PI 推出面向新一代高压电力系统的 2200V 氮化镓技术
“我们的 2200V PowiGaN™ 技术可为各类新一代高压电力系统提供充足的电压裕量,同时能够实现高开关频率,满足最大化功率密度的设计需求。”
持续突破电压等级,将 GaN 打造为成熟可靠的功率半导体技术
“我们的 2200V PowiGaN™ 技术可为各类新一代高压电力系统提供充足的电压裕量,同时能够实现高开关频率,满足最大化功率密度的设计需求。”
Power Integrations 在不到两年的时间里实现了三个电压等级的突破,分别是 900V、1250V 及 1700V。1700V 的电压等级标志着氮化镓功率电子技术的重大突破,使得氮化镓设备能够在高电压应用中替代成本高昂的 FET。
高级应用工程师崔涵展示这款新 IC 在一块设计评估板上实现了 90% 的效率,适用于 60W 工业电源,具有两个独立调节的输出,无需 DC-DC 后级调节器。
AI 计算需求正在推动数据中心电源架构向更高效率和更高功率密度发展。我们业内首创的 1250V 和 1700V PowiGaN HEMT 器件可理想满足这些需求。Power Integrations 正与 NVIDIA 合作,加速向 800VDC 电源架构和兆瓦级机架的转型。
该白皮书在 2025 年 OCP 全球峰会上发布,NVIDIA™ 在会上分享了向 800 VDC 数据中心电源过渡以支持兆瓦级机架的见解。
行业首创的高压 GaN 电力器件,适用于广泛的应用
技术讲解与应用演示
应用指南、参考设计、设计套件与白皮书