详细说明：

ULTRAPOL advance样品制备抛磨机 新一代的为显微镜或SEM等高科技微细观察进行样品制备的研磨机.它将先进的精密控制和简便操作融于一身,为现代的IC等产品样品制备提供了一个良好的解决方案和系统. 设备主要特点: 顶部方便快捷的光学对准装置,比其他的和以往的此类机器有了很大的性能提高. 各种封装 DIE 的截面抛(Cross-sectioning of die) 都可适用. 各种封装形式和硅片等背面样品制备都可适用. SEM Stub Holder 和其他的夹具，很方便地使用. 可以重复使用些研磨液和冷却剂. 对于比较难的研磨 (such as the back-thinning of larger flip chips), 设备提供另外的‘Power polish' mode选件.