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上海昊量光电设备有限公司
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产品名称:【供应】石墨烯CVD制备设备
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发布时间:2019-08-19

详细说明:

石墨烯CVD制备设备 产品负责人: 姓名:贺工(Kevin) 电话:180 1976 2603 邮箱:chinan-he@auniontech.com 这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等。 技术参数 1200双温区加热炉 电压 AC220V 50/60Hz 功率 4.5KW 双温控 Max温度 1150 °C 工作温度 ≤ 1100 °C 升温速率 ≤ 15°C/min 温控系统 PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率,30段可编程控制器 恒温精度 ±1°C 石英管 25/50/60/80*1400mm 三路质量流量控制系统 MAX电压 185~245V/50Hz MAX输出功率 18W 流量计标准量程 50,100,200,500SCCM(非特殊指定以氮气标定,量程可选定) 工作温度 5~45 °C 工作压差 0.1~0.5 MPa MAX压力 3MPa 准确度 ±1.5%FS 低真空系统 采用双极旋片真空泵 不锈钢充油真空压力表,良好的抗震性 安装过滤器 内置测温系统 测温元件可从加热区边缘延申至温区中心法兰密封,保证炉管的密封性测温元件,N型热电偶 法兰及支撑 304不锈钢快速水冷法兰,长期水冷无腐蚀,一个卡箍就能完成法兰的连接,放取物料方便快捷可调节法兰的支撑,平衡炉管的受力支撑。包含进气,出气,真空抽口针阀,KF密封圈及卡箍组合,4个密封硅胶圈等。 可选配件 混气系统,中,高真空系统,各种刚玉坩埚,石英管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪,冷却水循环机。

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